PMMA〔聚甲基丙烯酸甲酯〕光刻胶是一种大量用途于微生产、纳米技术行业关键材料。作为一种正性光刻胶，PMMA于紫外光照射下会有化学反应，从而改变其溶解特性，这使其作为微细加工中很大工具。

PMMA光刻胶具有优良热稳固性、化学稳固性，能够于高温环境下保持结构完整性，这对于半导体器件生产至关很大。其主要成分是聚甲基丙烯酸甲酯，通过添加很多助剂来优化性能，如增强灵敏度、改善附着力。于使用过程中，PMMA光刻胶通被涂覆于硅片或其他基材表面形成均匀薄膜，然后利用掩模版进行曝光处理。曝光区域会于显影液中溶解，而未曝光部分则保留下来，这样就形成了所需图案。

PMMA光刻胶优势于于其高分辨率能力，能够实现亚微米甚至纳米级别图形转移。另外，它还含优秀抗蚀刻能力、较低成本效益，于集成电路生产、微机电系统(MEMS)还有光学元件行业有着大量用途。然而，随着现代科技发展，对于更高精度、更复杂结构需求日益增加，这也推动了新型光刻胶材料研究和开发。尽管如此，PMMA光刻胶仍然凭借其成熟技术、可靠性能，于众多行业内占据着不可替代位。

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